在一级水性羟基丙烯酸树脂浮色发化原因除盐体系中的阴床受胶体二氧化硅污染，导致出水含硅添加的毛病首要原因是：在弱碱树脂使用强碱树脂再生废液再生时发生的，已用过的再生废液中的有用烧碱成分已不多，所含有硅酸盐量甚高，此种再生液进到弱碱阴树脂层中，弱碱阴树脂吸着了OH－，使再生液PH值下降，此刻硅酸盐即聚合生成胶体二氧化硅的速度最快，导致树脂层内积累很水性羟基丙烯酸树脂浮色发化原因多硅胶体，使再生后的清洗发生困难，运行时又逐步开释，添加强碱阴树脂担负，形成硅走漏量添加。为防止胶体硅分出，a:应在使水性羟基丙烯酸树脂浮色发化原因用强碱树脂再生用过的废碱液时，可先排去1/4～1/3的含硅量多的碱液（至强阴床排液显酚酞碱度，约须15～2 分钟）。然后再引进弱碱树脂层进行再生，这样可削减或防止弱碱树脂受硅的污染。b:可先用1％浓度的NaOH以较快的流速再生，这时，置换出来的硅酸量不多，但能使弱酸性阴树脂得到开始再生，并使树脂水性羟基丙烯酸树脂浮色发化原因呈碱性。然后再用2—4％NaOH以较低的流速再生，这样可防止因PH值下降而分出胶体硅酸。

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